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原子层沉积系统(ALD)
应用。 NLD-3500(M)原子层沉积系统特点:NLD-3500是一款紧凑型独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统,带Labview软件,具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为全自动的
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ALD原子层沉积设备-SVT
NorthStar ALD系统介绍:NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法,包括热淀积以及能量增强淀积。每台设备可以提供多达8个先驱源管路以及一个热壁淀积腔,使其应用范围极为
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等离子体增强型原子层沉积PEALD
(batch)0.77 %TiO20.28 %HfO20.47 %ZnO0.94 %Ta2O51.0 %TiN1.10 %CeO21.52 %Pt3.41 % 等离子体增强型原子层沉积PEALD介绍
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NLD-3000 ALD原子层沉积系统
应用。 NLD-3000原子层沉积系统特点:NLD-3000是一款独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统,带Labview软件,具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为全自动的安全互锁设计
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SUPERALD Exploiter原子层沉积Thermal-ALD
设备规格工艺温度:温度范围:RT~500°C (可定制)前驱体路数:支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数:支持2路反应物气路(可
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牛津仪器OPAL原子层沉积系统(ALD)
, Si3N4 金属: Ru, Pt 紧凑型开放式样品载入原子层沉积(ALD)系统OpAL提供了专业的热ALD设备,可以简单明了的升级使用等离子体,使得在同一紧凑设备中集成了等离子体和热ALD
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原子层沉积技术ALD-P1000
原子层沉积技术ALD-P1000技术参数衬底尺寸和类型大小不等的3D结构物件(例如:机械零件、玻璃或金属片、硬币、珠宝以及医疗植入物等)工艺温度50 - 400 °C标准选件Al2O3
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SAL1000G ALD原子层沉积系统
适配器安装尺寸W1000 x D700 x H900 SAL1000G是一款包含手套箱小型桌面ALD原子层沉积系统,具有良好的均匀性及优越的阶梯覆盖性能,使用户能够精确控制每个原子层的沉积
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Angstrom Dep III等离子体增强原子层沉积系统(PEALD)
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NLD-4000 (A) ALD全自动原子层沉积系统
广泛的应用。 NLD-4000(A)全自动原子层沉积系统特点:NLD-4000(A)是一款全自动独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统,带Labview软件,具备四级密码控制的用户授权保护功能
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